IBM немного приоткрыла завесу над особенностями 22-нанометровой технологии. Ее применение позволяет производить мощные энергоэффективные микросхемы, компания планирует запустить новый технологический процесс в 2011 году.
Современные процессоры выпускаются по 45-нанометровой технологии. Используемый при этом метод оптической литографии не подходит для создания 22-нанометровых элементов для чипов.
Для 22-нанометрового производства IBM будет использовать "вычислительное масштабирование" (computational scaling). Компания разработала специальное ПО, производящее сложные математические расчеты по преобразованию и оптимизации параметров микросхемы под новый техпроцесс. Данный метод применяется вместе с технологией «high-k/metal-gate», которая была использована при создании первой в мире 22-нанометровой памяти.
Решение CS от IBM включает множество процессов. К ним относятся новый метод увеличения разрешения, оптимизация исходной маски, виртуальная обработка кремния по технологии TCAD, предсказывающее моделирование процесса, сравнение моделей, обработка дизайна, комплексное иллюстрирование и контроль дисперсии.
В конце августа 2008 года IBM совместно с AMD, Freescale и Toshiba первыми в мире создали элемент памяти SRAM по технологии 22 нанометра. Intel планирует выпустить первые 22-нанометровые чипы в 2011-2012 годах.
