21 сентября 2009, 15:53

Во 2 полугодии 2010 Toshiba и SanDisk начнут производство NAND flash-памяти по технормам менее 30 нм

Toshiba и ее партнер, компания SanDisk, планируют запустить во 2 полугодии 2010 серийное производство NAND flash-памяти по нормам техпроцесса 20-нм класса. Об этом пишет DigiTimes, со слов отраслевых источников. В связи с переходом на новые технологии, совместное предприятие SanDisk и Toshiba — завод в г. Йоккайчи (префектура Миэ, Япония) — должен увеличить свой объем производства до 200 тыс. кремниевых пластин в месяц.

Toshiba, которая недавно начала массовый выпуск 32-нм flash-чипов с 3 битами на 1 ячейку, ожидает, что к концу 2009 более половины от всего объема продукции, изготовленной на заводе в Йоккайчи, составят 32-нм чипы.

Конкурирующая группа в лице Intel и Micron Technology собиралась представить новую 2х-нм технологию позже в нынешнем году. Массовое производство 34-нм 32-гигабитных NAND flash-модулей с 3 битами на 1 ячейку будет запущено на базе IM Flash Technologies — совместного предприятия, образованного Intel и Micron.

Samsung Electronics собирается модернизировать свой завод в Остине, США, шт. Техас, выпускающий 8-дюймовые пластины. Здесь будут изготавливать 12-дюймовые пластины — с целью увеличить со второй половины 2010 производство NAND flash-чипов. В настоящее время корейская компания производит NAND flash-память по 42-нм технологиям.

С внедрением технологии 2х-нм цена SSD станет меньше, что будет способствовать их дальнейшему распространению и наступлению на позиции жестких дисков.

Оцените новость:
  • 0 оценок