5 августа 2003, 14:04

Жидкая литография позволит уменьшить размеры чипов

Новая система разрабатывается группой ученых из американского Национального института стандартов и технологий. В ее основу положены принципы так называемой жидкостной литографии (liquid immersion).

Идея, используемая в системе - не нова. Популярная при создании чипов сегодня оптическая литография позволяет достичь разрешения примерно в 100 нанометров. Дальнейшее увеличение плотности влечет физические и технические трудности.

Ученые выяснили, что если разместить между кремниевой подложкой и конечным оптическим элементов микроскопические капли жидкости со строго определенными свойствами, можно добиться разрешения в 65 и даже 45 нанометров. Важно чтобы коэффициент преломления жидкости был как можно меньше.

Скорее всего, в данной технологии будет использоваться высоко очищенная вода, но не исключается и возможность использования каких-либо других жидкостей, сообщается на сайте разработчиков.

Оцените новость:
  • 0 оценок